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松下32納米制程LSI本月正式量產
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今年10月起,松下開始以32納米制程批量生產大規模集成電路(LSI),LSI(Large-scale integration)將應用于松下支持3D放映的藍光播放器中。32納米制程的LSI在今年春季首次被美國英特爾應用于筆記本電腦中而實現量產,此次松下把32納米制程的LSI應用于旗下家電制造中在業界還是首次。
32納米制程的LSI將在松下位于日本富山縣魚津市的工廠內開始量產,由于該工廠目前已經在批量生產目前世界最先進的45納米制程的LSI,多數生產設備可以繼續利用以生產32納米制程的LSI,因而松下僅需付出少量資金用于更新生產設備。目前,松下并沒有公布量產規模及投資金額,不過松下將會把更新生產設備的投資金額控制在250億日元之內。
和現有的45nm工藝相比,32nm工藝在以下幾個方面有著顯著的變化:32nm工藝使用第二代高-K金屬柵級、0.9nm等價氧化物厚度高-K(45nm技術是1nm)、金屬柵級工藝流程更新、30nm柵極長度、第四代應變硅、有史以來最緊密的柵極間距(第一代32nm技術將使112.5nm柵極間距)、有史以來最高的驅動電流、晶體管性能提升22%、同比封裝尺寸將是45nm工藝產品的70%。
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相對于45nm工藝,NMOS晶體管的漏電量減少5倍多,PMOS晶體管的漏電量則減少10倍以上。由于上述改進,電路的尺寸和性能均可得到顯著優化。